沈阳某半导体材料心片制作厂，晶圆生产的时候中出现含硅、氟的特殊化废气，设置操作投资额1200吨/日。废气组分繁多，有效nm级硅颗料及氢佛酸，传统意义操作工艺不好符合标准。 废液的成分及源 最主要的造成的废水 ：氢氧化铁硅（100-500nm孔径）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 源制作工艺 ：晶圆刻蚀焦化废水处理（45%）、CMP生物自动化抛光技术剂焦化废水处理（40%）、设施设备擦拭水（15%） 处置制作鑫霖环保图 信息化使用"化工奠定+特种作业膜分离法"技术设备路径： 钙盐析出 ：污泥脱水氯化钙洗去氟阳离子（出现CaF2沉淀出的） 二沉池不良反应 ：复合材料斜板沉淀池剂控制固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm管径膜公款私存微细颗料 反固化操作系统 ：脱盐率>98%，出售率75% 汽化心得 ：浓水段达成氟化物0排放量 终于视觉效果 氟化物密度：<8mg/L（不高于地方一层要求10mg/L） 硅分量：<5mg/L 水信息循环率：70%应用于玻璃钢冷却塔塔皮肤补水 垃圾减药：挥发残留物量较民俗加工过程抑制60%